OE750光電直讀光譜儀實現(xiàn)高分辨率和寬動態(tài)范圍要歸功于采用了*CMOS探測器技術的***新光學理念。其中有四項**正處于申請狀態(tài)。因此，這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍；這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當今嚴格的金屬規(guī)格分析至關重要，該分析儀可以滿足新的ASTM E415標準中關于碳鋼和低合金鋼的試驗方法的要求?！?/span>

OE750光電直讀光譜儀是鋁鑄件的理想光譜儀，因為它可以測定亞共晶和過共晶鋁硅合金中含量極低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉，以及雜質(zhì)和痕量元素，從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中，以優(yōu)化結(jié)構改造。**性光學設計能實現(xiàn)更短的啟動時間，因為光學系統(tǒng)的體積相對較小。這有助于那些需要在多點測量驗證熔體質(zhì)量的工廠實現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

除了新的光學設計之外，OE750光電直讀光譜儀還有其他支持大批量金屬分析的技術特性。它有一個新的密封火花臺，具有優(yōu)化層流設計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的*中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。

新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準，減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。可選的爐料校正軟件會自動計算添加至熔體中的正確材料量，使其符合規(guī)范。